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桂林电子科技大学硕士研究生入学考试复试试卷 A 考试科目代码:227 考试科目名称:半导体物理 请注意:答案必须写在答题纸上(写在试卷上无效)。 一、选择(每小题 3 分,共 15 分) 1. 在 GaAs 中熔入 GaP 可使其() A.禁带变宽 B. 增加电子陷阱 C.禁带变窄 D. 增加空穴陷阱 2. 欧姆接触是指()的金属半导体接触 A. s 0m W B. s 0m W C. s 0m W D.阻值较小且具有对称而线性的伏安特性 3. 有效复合中心的能级必靠近() A.禁带中部 B.导带 C.价带 D.费米能级 4. 有一种半导体材料的霍尔系数为零,该材料通常是() A.n 型 B.p 型 C.本征型 D.高度补偿性 5. 有三个硅样品,其掺杂情况分别是() 甲.含铝 15 3 1 10 cm 乙. 含硼和磷各 17 3 1 10 cm 丙. 含镓 17 3 1 10 cm A.甲乙丙 B.甲丙乙 C.乙甲丙 D.丙甲乙 二、简答(每小题 8 分,共 40 分) 1. 从能带论的角度简述导体、半导体、绝缘体的导电性。 2. 以 V 族元素掺入 Si 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。 3. 简述 PN 结耗尽区的形成机制。 4. 简述塞贝克或温差电效应 5. 简述霍尔效应和量子霍尔效应以及二者的区别。 三、计算(每小题 15 分,共 45 分) 1. 有一硅样品,施主浓度为 14 3 2 10 /D N cm ,受主浓度为 14 3 10 /A N cm ,已知施主电离 能 0.05D C D E E E eV ,试求 99%的施主杂质电离时的温度。 2. 室温下,本征锗的电阻率为 47 cm ,试求本征载流子。设 2 3600 /n cm ( V s), 2 1700 /p cm ( V s) 3. 某 n 型半导体硅,其掺杂浓度为 15 3 10 /D N cm ,少子寿命 5p s ,由于外界作用,使 其少数载流子全部被清除,试求此时电子-空穴的产生率是多大?设 10 3 1.5 10 (1 / )i n cm 共 页 第 页 请注意:答案必须写在答题纸上(写在试卷上无效)。
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